吴爱民
　　院系： 材料科学与工程学院
　　办公电话： 0411-84706661转101
　　电子信箱： aimin@dlut.edu.cn  
　　更新时间： 2010-3-28
　　其他专业： 无
　　
　　 个人简介
　　1996年7月 毕业于大连理工大学材料工程系，获工学学士学位；
　　1999年9月 毕业于大连理工大学材料工程系，获工学硕士学位；
　　2003年4月 毕业于大连理工大学材料工程系，获理学博士学位。
　　2002年7月至2003年3月在大连理工大学三束材料改性国家重点实验室电子束室从事强流脉冲电子束材料表面改性技术及离子注入技术研究。
　　2003年4月 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室，讲师。
　　2003年11月至2004年11月在法国利摩日大学陶瓷工艺及表面处理科学实验室以访问学者身份从事PEMOCVD技术研究。
　　2009年12月 大连理工大学材料学院/三束材料改性教育部重点实验室，副教授
　　
　　 社会兼职
　　大连理工大学材料科学与工程学院材料党支部支部书记；
　　大连理工大学长江学者讲座教授姜辛教授科研秘书/科研助手
　　《核技术》，《电子学报》，《哈尔滨工程大学学报》审稿人

　　 研究领域（研究课题）
　　低温多晶硅薄膜太阳能电池研究：主要研究廉价衬底上电子回旋共振（ECR）微波等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术低温制备多晶硅薄膜、p型n型掺杂技术及工艺，探讨薄膜电池光电性能及相关理论和工艺优化。
　　超硬薄膜材料及涂层技术：研发用于各类保护涂层、改性涂层及刀具、工具用超硬薄膜材料。
　　其他功能薄膜、介质膜的制备与应用研究：主要研究AlN压电薄膜、二氧化硅透明陶瓷保护膜、氮化硅介质阻挡膜、Al2O3陶瓷膜等的相关制备工艺及应用。
　　承担教育部留学回国人员科研启动基金1项，宝钢预研项目1项，负责航空基金1项；参与国家自然科学基金4项、863项目2项，省部级项目4项。

　　 硕博研究方向
　　1. 低温多晶硅薄膜太阳能电池制备及性能
　　2. 超硬薄膜材料及涂层技术
　　3. 功能薄膜及介质膜的制备工艺及应用

　　 出版著作和论文
　　主要文章：
　　 1. A.M. Wu, H. Hidalgo, P. Tristant, J. Desmaison, C. Dong, AlN thin film deposition by RMPECVD, 5th Asia-European international conference on plasma surface engineering, September 12-16, 2005, Qingdao, Thp513
　　 2. Aimin Wu, Fuwen Qin, Zhipeng Zhang, Qinghao Feng, Deposition and structural characterization of poly-Si thin films using ECR-PECVD at low temperature, September 12-16, 2005, Qingdao, Wep510
　　 3. 冯庆浩，秦福文，吴爱民，ECR-PECVD方法低温制备多晶硅薄膜，半导体技术，2006年（待出版）
　　 4. 王艳艳，秦福文，吴爱民，冯庆浩，用ECR-PECVD技术低温生长多晶硅薄膜，半导体光电，2006年，第27卷
　　 5. Fuwen Qin, Aimin Wu, Biao Gu, Yin Xu, ECR-Plasma cleaning and nitridation of sapphier and GaAs substrates, 5th Asia-European international conference on plasma surface engineering, September 12-16, 2005, Qingdao, ThP323
　　 6. Shengzhi HAO, Bo GAO, Aimin WU, Jianxin ZOU, Ying QIN, Chuang DONG, Jian AN, Qingfeng GUAN, Surface modification of steels and magnesium alloy by high current pulsed electron beam, Nuclear instruments & methods in physics research section B, 2005，Vol. 240，646-652
　　 7. Zou Jianxin, Wu Aimin, Dong Chuang, Hao Shenzhi, Liu Zhenmin, Ma Haitao, Oxidation protection of AISI H13 steel by high current pulsed electron beam treatment, Surface and Coatings Technology, 183(2004): 261-267
　　 8. Dong, C.; Wu, A.; Hao, S.; etc., Surface treatment by high current pulsed electron beam, Surface and Coatings Technology, Volume: 163-164, January 30, 2003, pp. 620-624
　　 9. C.Dong, A.M. Wu, S.Z.Hao, A.M. Zhang, T. Xu, J. Xu, H.W. Liu, Z.R. Zhou, High-current pulsed electron beam: Rapid surface alloying and wear resistance improvement, Acta Metallurgica Sinica (English Letters),16(2003): 276-282
　　 10. 秦颖，吴爱民，邹建新，郝胜智，刘悦，王晓钢，董闯，强流脉冲电子束表面改性的物理模型及数值模拟，强激光与粒子束，15（2003）7：701－704
　　 11. 秦颖，吴爱民，邹建新，刘悦，王晓钢，董闯，强流脉冲电子束轰击产生表面熔坑的数值模拟研究，材料热处理学报，24（2003）1：85－89
　　 12. 邹建新，刘振民，吴爱民，秦颖，王晓钢，董闯，脉冲电子束辐照中增强扩散效应的数值计算，材料热处理学报，24（2003）2：70－74
　　 13. Aimin Wu, Hanwei LIU, Jianxin ZOU, Zhongrong ZHOU, Chuang DONG, Fretting wear behavior of D2 die steel after surface modification by High Current Pulsed Electron Beam, 3rd International Conference on Surface Engineering, October 10-13, 2002, Chengdu: 392-396
　　 14. Chuang Dong, Aimin Wu, Shengzhi Hao, et.al., Enhanced Diffusion Induced by High-Current Pulsed Electron Beam, Journal of the Korean Vacuum Society, 2002
　　 15. WU AM, Deng WT, Qin FW, et al., Fabrication and its characteristics of low-temperature polycrystalline silicon thin films, Science in China Series E: Technological Sciences, 2009, 52(1): 260-263, SCI、EI cited，IF：0.495，他引：0次
　　 16. Cheng H, Wu AM, Shi NL, Wen LS, Effect of Ar on polycrystalline Si films deposited by ECR-PECVD using SiH4, J. Mater. Sci. Technol., 2008, 24(5): 690-692, SCI、EI cited，IF：0.869，他引：0次
　　 17. Cheng H, Wu AM, Xiao JQ, et al., Effect of substrate temperature on the growth of polycrystalline Si films deposited with SiH4+Ar, J. Mater. Sci. Technol., 2009, 24(4): 489-491, SCI、EI cited，IF：0.869，他引：0次

　　 在读学生人数
　　硕士2人，协助指导硕士1人、博士3人

　　 毕业学生人数
　　硕士4人，博士1人
 

以上是聚创考研网为考生整理的"大连理工大学材料科学与工程学院导师介绍：吴爱民"的相关考研信息，希望对大家考研备考有所帮助！ 备考过程中如有疑问，也可以添加老师微信juchuang911进行咨询。

免责声明：本网站发表的部分公开资料来源于互联网，目的在于传递更多信息及用于网络分享，并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责。聚创考研网尊重版权，如有侵权问题，请及时联系（WX：juchuang911）